Механизмы и стадии протекания процессов химического осаждения из газовой фазы для получения функциональных слоев ИМС, их технологические характеристики. Методы CVD и их существенные преимущества. Типы реакторов, используемых для процессов осаждения.
06.02.2014 |
Технология изготовления полупроводниковых приборов |
Производство и технологии |
Язык: русский |
Просмотры: 77
