Виготовлення напівпровідникових приладів й інтегрованих схем
Технологія виготовлення планарного діода: вхідний контроль, підготовка напівпровідникових пластин, епітаксія, окислювання кремнієвих пластин, фотолітографія, металізація. Скрайбування та розламування пластин на кристали. Розрахунок дифузійного процесу.
10.11.2013 |
Технологія мікросхем |
Производство и технологии |
Язык: украинский |
Просмотры: 34
