Разработка конструкции и технологического процесса изготовления диффузионного резистора

Описание и анализ конструкции диффузионного резистора. Оптимизация его конструкции с учетом критерия минимальной площади. Последовательность операций планарно-эпитаксиальной технологии производства биполярных полупроводниковых интегральных микросхем.

20.11.2013 | Интегральные устройства РЭС | Коммуникации, связь, цифровые приборы и радиоэлектроника | Язык: русский | Просмотры: 94