Технология структур кремния на изоляторе

Технология изготовления полупроводниковых приборов, основанная на применении в качестве подложки трехслойной структуры кремний-диэлектрик-кремний (КНИ): преимущества, конструктивное исполнение и операции получения методом управляемого скалывания.

30.04.2011 | Увлекательное | Коммуникации, связь, цифровые приборы и радиоэлектроника | Язык: русский | Просмотры: 71