Технология изготовления кристаллов полупроводниковых интегральных микросхем

Анализ технологии изготовления плат полупроводниковых интегральных микросхем – такого рода микросхем, элементы которых выполнены в приповерхностном слое полупроводниковой подложки. Характеристика монокристаллического кремния. Выращивание монокристаллов.

03.12.2010 | Материаловедение и материалы электронных средств | Коммуникации, связь, цифровые приборы и радиоэлектроника | Язык: русский | Просмотры: 81