Физико-химические основы термовакуумного испарения и осаждения материалов
Процесс нанесения тонких пленок в вакууме. Метод термического испарения. Области давления газов, соответствующие различному вакууму и средняя длина свободного пути молекул. Основные виды насосов, их параметры и характеристика. Средства измерения вакуума.
14.06.2011 |
Физика |
Физика и энергетика |
Язык: русский |
Просмотры: 85
