Исследование качеств структур Ge/Si

Ge/Si гетероструктуры с квантовыми точками, рост и особенности упорядочения и эффекты самоорганизации. Влияние температуры роста и качества поверхности на формирование квантовых наногетероструктур Ge/Si. Методика и значение дифракции быстрых электронов.

28.08.2015 | Физика | Физика и энергетика | Язык: русский | Просмотры: 82