Рентгенолитография в интегральных микросхемах

Технология ренгенолитографических процессов. Экспонирование в ренгенолитографии. Характеристические длины волн излучения некоторых материалов. Системы мультипликации изображения. Материалы и основные характеристики шаблонов для рентгенолитографии.

27.12.2011 | Прикладная физика | Физика и энергетика | Язык: русский | Просмотры: 57