Использование изопланарного процесса для изготовления полупроводниковых интегральных микросистем. Характеристика изопланарной, эпипланарной и полипланарной технологий. Понятие межэлементной диэлектрической изоляции. Показатели, характеризующие эпитаксию.
18.07.2011 |
Микроэлектроника |
Физика и энергетика |
Язык: русский |
Просмотры: 103
